muimitthom
Member
Trung Quốc tạo đột phá trong công nghệ quang khắc bán dẫn
Các nhà khoa học Trung Quốc vừa công bố một phát minh quan trọng có thể mở ra nhiều đột phá về quang khắc bán dẫn và nhiều công nghệ khác.
thanhnien.vn
Các nhà khoa học Trung Quốc vừa công bố một phát minh quan trọng có thể mở ra nhiều đột phá về quang khắc bán dẫn và nhiều công nghệ khác.
Phát minh mà các nhà khoa học Trung Quốc thực hiện liên quan đến hệ thống laser trạng thái rắn nhỏ gọn có khả năng tạo ra ánh sáng đồng nhất với bước sóng 193 nm.
Tia laser trạng thái rắn cực tím sâu với thiết lập nhỏ gọn tạo ra luồng xoáy ở bước sóng 193 nm
Ảnh: Viện Hàn lâm Khoa học Trung Quốc
Tia laser cực tím sâu (DUV) với năng lượng photon cao và bước sóng ngắn hiện là công cụ quan trọng trong quang khắc bán dẫn, quang phổ độ phân giải cao, xử lý vật liệu chính xác và công nghệ lượng tử. Hệ thống laser mới được các nhà khoa học Trung Quốc phát triển nổi bật với tính kết hợp cao và mức tiêu thụ năng lượng thấp, cho phép sản xuất các thiết bị nhỏ gọn hơn so với các loại laser truyền thống như laser excimer hay laser phóng điện khí.
Bước đột phá được Trung Quốc áp dụng
Theo báo cáo trên tạp chí khoa học Advanced Photonics Nexus, hệ thống laser này hoạt động với tốc độ lặp lại xung 6 kHz, sử dụng bộ khuếch đại tinh thể Yb:YAG để tạo ra tia laser có bước sóng 1.030 nm. Chùm tia này được chia thành hai phần: một phần đi qua tinh thể phi tuyến tính để tạo ra chùm tia 258 nm với công suất đầu ra 1,2 W, trong khi phần còn lại tác động lên bộ khuếch đại tham số quang học, tạo ra tia laser 1553 nm với công suất 700 mW. Hai chùm tia này sau đó được kết hợp trong các tinh thể LBO (lithium triborate, LiB3O5) để tạo ra tia laser 193 nm với công suất trung bình 70 mW và độ rộng vạch phổ nhỏ hơn 880 MHz.
